반도체 제조 공장에서 사용되는 클린 컨베이어 시스템은 일반 컨베이어와 달리 다음과 같은 특성을 지원합니다.
01
클린 룸 (Clean Room)에서 운영할 수 있는 청정도
(Cleanliness, Class 100 또는 ISO 5이하) 유지
02
OHT 시스템과의 인터페이스를 위하여 정확한 정지위치 정밀도 지원
03
컨베이어가 사용되는 공정에 따라 ESD(Electrostatic Discharge) 지원
04
FOUP내에 담기 웨이퍼의 손상이 없도록 저진동
(Low Vibration Level, < 1G 이하) 설계
05
반도체 제조 수율을 높이기 위하여 빠른 속도로 반송물을 이동
반도체 제조 공장내에서 클린 컨베이어 시스템은 다음과 같이 지원합니다.
01
공정 장비와 공정 장비
02
공정 장비와 저장 장치
03
반도체 제조 공장(FAB)과 반도체 제조 공장(FAB)
서로 간의 웨이퍼 반송을 담당하여 FAB내 반송물 이동을 극대화하고, OHT(Overhead Hoist Transport) 시스템의 부하를 낮추어서 전체 반도체 생산의 효율성을 증가시키는 일을 담당합니다.
